kemet拋光機(jī)描述
用于 KemCol 15 的配件和耗材
描述 代碼
3 件套陶瓷面調(diào)理環(huán) 361522
不銹鋼塑料面調(diào)節(jié)環(huán) 362757
380 毫米不銹鋼支撐板（用于拋光墊） 362033
380 毫米鋁制升降盤(pán) 361001
380 毫米鋁制驅(qū)動(dòng)板 361002
380 毫米薄金屬盤(pán)（用于磁性系統(tǒng)） 342563
380 毫米磁盤(pán) 345773
CMP 研磨液 5 升 10 升 20 升
Col-K 600212 600238 600204
科爾-K（NC） 600199 600239 600202
CMP拋光液
kemet拋光機(jī)耗材 代碼
380 毫米 CHEM-H 聚氨酯拋光墊 341865
380 毫米 PSU-M 鈰化學(xué)紡織布 341011
380 毫米 MRE 短絨毛終拋光墊 341715
kemet化學(xué)機(jī)械拋光介紹
化學(xué)機(jī)械拋光 (CMP) 是一種在制造業(yè)中越來(lái)越流行的表面拋光方法。CMP 是將化學(xué)力和機(jī)械力組合應(yīng)用于材料表面，以將其拋光至非常高的光滑度。該工藝對(duì)于難以加工或具有復(fù)雜幾何形狀的材料特別有用。
Kemet 提供各種標(biāo)準(zhǔn)和特殊金剛石產(chǎn)品，這些產(chǎn)品均在我們的質(zhì)量控制實(shí)驗(yàn)室中配制和制造。每一種產(chǎn)品都是金剛石粉末的特殊混合物，在化學(xué)載體中具有特定的等級(jí)和濃度
Kemet 產(chǎn)品使用后的效果表現(xiàn)：
好的切削量和表面光潔度
易于清潔
耐溫性
潤(rùn)滑以防止干燥
